CRF plasma 等離子清洗機

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        氣流量對plasma等離子清洗機的影響有哪些呢

        氣流量的大小對清洗的影響較大,等離子清洗機在清洗中,要保持一定的真空度(0.1-0.2torr)才能產生輝光進行清洗,在0.1-0.2torr真空度下對于清洗的效(果)都是相同的。在真空度越低的狀態下,相對的輝光較強。在清洗的過程中,需要隨時將被清洗下來的污染物用真空泵抽走,同時也要隨時補充干凈的氣體,為保持一定的真空度,進氣與抽出的氣體應該處于一種動態平衡的狀態,如果進氣量過大,對真空泵的要求就高,這樣一來將浪費氣體。另外,針對高要求的超清洗氣源應先過濾,再輸入plasma等離子清洗機的腔體,這時的氣體流量也不可過大.

        plasma等離子清洗機

        plasma等離子清洗機可以被用于化學表面改性,如果將物質的天然氧化層洗掉后,將物體拿出清洗腔它將會被再次氧化。不同的氣體將會對物體表面產生不同的作用。(氧氣和空氣能氧化物體而氫氣和惰性氣體則不會)注意:如果用氧氣來清洗,應使用專用的真空泵。等離子清洗機可被用于植入物的清洗并改善其粘附性。注意如果你將一個干凈的物體和一個較臟的物體同時放入清洗腔,如果清洗時間不夠或是氣體流量不強,有可能較臟物體被洗下來的污染物會附著在干凈物體上。

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