在真空室引入等離子體刻蝕機時，氣體要保持腔內壓強穩(wěn)定：
        將等離子體刻蝕機中引入真空，將氣體導入真空室，保持腔內壓力穩(wěn)定。依據(jù)清潔材料的不同，可采用氧、氬、氫、氮、氟等多種氣體分貝。將高頻率電壓置于真空室的電極與接地裝置之間，使氣體被擊穿，并經(jīng)電弧放電后形成等離子化，形成等離子體。使被處理工件在真空室內所形成的等離子體完全覆蓋并開始清洗操作，一般的清洗處理可持續(xù)數(shù)十秒至數(shù)十分鐘。清潔結束后，斷開電源，用真空泵吸氣及氣化污垢排出。

        等離子體刻蝕機的另一項功能是清洗完畢后，其表面已經(jīng)完全干透。對物體表面進行化學刻蝕處理后，往往會形成許多新的活性基團，使物體表面發(fā)生“活(化)”并改變其性能，可極大地提高物體表面的滲透性和粘附性，這對于很多材料來說非常重要。所以等離子體清洗具有很多用溶劑進行的濕式清洗無法比擬的優(yōu)點。相對于濕法清洗而言，等離子體刻蝕機的優(yōu)點主要有以下幾點：
       經(jīng)等離子體刻蝕機清洗后，被清潔的物體已非常干燥，無需再次進行干燥處理即可送到下道工序。無三氯乙烷等有害污染物，是一種有利于環(huán)境保護的綠色清潔方式，使用電磁波范疇高頻率形成的等離子體有別于激光等直射光線，其指向性不強，因而能深入到物體內部，完成清理工作，從而完成清理工作，因此，無需過分考慮被清潔物體形狀的影響。清潔效果(果)對于這些難洗部位的清潔效果較好，與氟利昂清潔的效(果)相當。該清洗流程可在數(shù)分鐘內完成，具有較高的產(chǎn)率。