CRF plasma 等離子清洗機

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        PCB線路板低溫等離子發生器_去除表面微觀污染物

               低溫等離子發生器處置技術是一項新興的半導體制造技術。這一技術早期應用于半導體制造領域,是半導體制造不可缺少的技術。所以,集成電路加工是一項長期成熟的技術。由于等離子體是一種高能量、高活性的物質,它對任何有機材料都具有良好的腐蝕效果,等離子體的制造選用干法加工,不會產生污染,近年來在印刷電路板生產中得到了廣泛的應用。用低溫等離子發生器印刷電路板時,保形涂層材料的流動特性得到改善。其它保形膜附著力的挑戰還包括脫模化合物和殘余焊劑等污染物。在這些情況下,低溫等離子發生器是清潔電路板的有效方式 ,等離子體可以去除污染物而不損壞基板。

        低溫等離子發生器

               聚四氟乙烯化學沉銅前的活化處置方式 很多,但總體來說,能保證產品質量,低溫等離子發生器適用于以下兩類:
        a)低溫等離子發生器的化學處置方式 :
        金屬鈉和萘在非水溶劑如四氫呋喃或乙二醇二甲醚的溶液中反應,形成萘-鈉絡合物。鈉萘處置液可以腐蝕孔內聚四氟乙烯表面的原子,從而潤濕孔壁。這是一種典型的方式 ,效果好,質量穩定,目前應用廣泛。
        b)低溫等離子體發生器處置方式 :
        本工藝使用簡單,處置質量穩定可靠,適用于等離子干法生產。化學處置方式 配制的鈉-萘處置液無法生成,毒素大,保存期短,須要根據生產情況調配,安全性要求高。所以,目前對PTFE表面的活化處置多選用等離子體處置,使用簡單,廢水處理量大大減少。
               低溫等離子體發生器的處理工藝屬于干法工藝,與濕法工藝相比有許多優點,這些優點取決于低溫等離子體發生器本身的特性。高電壓離子化的顯電中性等離子體活性高,能夠連續地與材料表面的原子反應,使表面物質不斷被氣體激發而揮發,達到清潔的目的。其在pcb印刷電路板的生產中具有良好的實用性,是一種清潔、環保、高效的清洗方式 。
               低溫等離子體發生器在清洗、腐蝕、電鍍、灰化、表面改性等領域有著廣泛的應用。通過它的處置,可以提高材料表面的潤濕能力,使各種材料能夠進行涂層和電鍍,增強附著力和附著力,同時去除有機污染物、油污或油脂。

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