CRF plasma 等離子清洗機(jī)

        支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

        20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

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        真空等離子清洗機(jī)

        CRF-VPO-8L-M

        超大處理空間,提升處理產(chǎn)能,采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng),精準(zhǔn)的控制設(shè)備運(yùn)行;

        可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù),滿足客戶的需求;保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制;

        高精度,快響應(yīng),良好的操控性和兼容性,完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。

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        名稱 真空式等離子處理系統(tǒng)
        型號(hào) CRF-VPO-8L-M
        控制系統(tǒng) PLC+觸摸屏
        電源 380V/AC,50/60Hz, 3kw
        中頻電源功率 1000W/40KHz/13.56MHz
        容量 30L(Option)
        層數(shù) 4(Option)
        有效處理面積 200(L)*150(W)(Option)
        氣體通道
        兩路工作氣體可選:ArN2CF4O2

        應(yīng)用范圍

              真空等離子清洗機(jī)適用于印制線路板行業(yè),半導(dǎo)體IC領(lǐng)域、硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域,汽車(chē)電子行業(yè),航空工業(yè)等。印制線路板行業(yè):高頻板表面活化,多層板表面清潔、去鉆污,軟板、軟硬結(jié)合板表面清潔、去鉆污,軟板補(bǔ)強(qiáng)前活化。半導(dǎo)體IC領(lǐng)域:COB、COG、COF、ACF工藝,用于打線、焊接前的清洗;硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域硅膠、塑膠、聚合體的等離子表面粗化、刻蝕、活化。
              真空式等離子清洗機(jī)系統(tǒng)廠家是運(yùn)用氣體電離形成的等離子體對(duì)產(chǎn)品工件進(jìn)行表面處理,不論是清洗還是表面活化,為了更好地取得優(yōu)質(zhì)的處理效果,針對(duì)不同的產(chǎn)品需要挑選不一樣的加工工藝氣體,等離子清洗機(jī)常見(jiàn)的加工工藝氣體有氧氣(Oxygen,O2),氬氣(Argon,Ar),氮?dú)?Nitrogen,N2),空氣壓縮(Compressed Air,CDA),二氧化碳(Carbon,CO2),氫氣(Hydrogen,H2),四氟化碳(Carbontetrafluoride,CF4)等。

              1、氧氣
              氧是一種常見(jiàn)的等離子清洗活性氣體,這是屬于物理學(xué)+化學(xué)處理方法,被電離后離子化造成的離子能夠?qū)Ρ砻孢M(jìn)行物理學(xué)轟擊,產(chǎn)生不光滑粗糙的表面。此外,高活性氧離子能與被斷鍵的分子結(jié)構(gòu)鏈產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng),轉(zhuǎn)化成具備活性基的親水性表層,以完成表層活性的目的;而被斷鍵的有機(jī)污染物則能與活性氧離子產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng),產(chǎn)生CO、CO2、H2O等分子脫離表層,完成表層清洗。氧關(guān)鍵用以高分子聚合物的表層活性和污染物的除去,但不可以用以于易氧化的金屬表層。在真空等離子下,氧等離子呈淺藍(lán)色,一部分充放電時(shí)呈乳白色;放電環(huán)境中光線較亮,用肉眼觀看時(shí)很有可能出現(xiàn)看不見(jiàn)真內(nèi)腔內(nèi)放電的狀況。
              2、氫氣
              氫與氧類似,是高活性氣體,能活化和清洗表層。氫和氧的差別關(guān)鍵取決于反應(yīng)后產(chǎn)生的官能團(tuán)不一樣,另外氫還具備還原性,可用于金屬表層的微觀氧化層除去,并且不易毀壞表層比較敏感的有機(jī)層。因而在微電子技術(shù),半導(dǎo)體材料和pcb線路板加工制造業(yè)中運(yùn)用較為普遍。因?yàn)闅涫俏kU(xiǎn)氣體,在沒(méi)有電離的狀況下易與氧氣融合會(huì)產(chǎn)生爆炸,因而在等離子清洗機(jī)中不允許這二種氣體混合使用。在真空等離子狀態(tài)中,氫等離子體為鮮紅色,與氬等離子體類似,要同樣放電環(huán)境下比氬等離子體顏色稍深。
              3、氮?dú)?br />       由氮?dú)怆婋x而成的等離子體與一些分子產(chǎn)生鍵合反應(yīng),因而也是一種有活性氣體,可是相對(duì)于氧和氫而言,它的顆粒較重,在一般的等離子清洗機(jī)的運(yùn)用中,這類氣體一般被界定在活性氣體氧、氫氣和稀有氣體氬氣之間的一種氣體。清洗活化時(shí)要做到一定的轟擊、蝕刻的效果,同時(shí)能避免一部分金屬表層產(chǎn)生空氣氧化。由氮?dú)夂推渌麣怏w混和而成的等離子體,一般用來(lái)處理一些特殊的材料。在真空腔體內(nèi),相同放電的情況下氮等離子會(huì)比氬、氫等離子亮度更亮一些。

        等離子表面處理

               氧等離子體處理是目前常用的一種干法蝕刻方式。氧氣(有時(shí)與氬混合)被用來(lái)處理鋁,不銹鋼,玻璃,塑料和陶瓷的表面。

        等離子活化
               稍微改變活化表面就可以進(jìn)行更好的印刷或粘合。蝕刻機(jī)器可以讓等離子體侵蝕印刷電路板使其膠粘性能的提高,例如粘合性和可飾面性。

        等離子表面改性

               等離子表面處理設(shè)備改性是指對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行清洗,以提高其印刷或粘接附著能力。等離子清洗的目的是去除表面有機(jī)污染物。等離子體處理你的產(chǎn)品表面,接受膠粘劑或印刷墨水。常用于聚四氟乙烯或塑料等離子體表面改性,實(shí)際上會(huì)改變材料的表面,使其留有自由基并粘附在膠或墨水上。

        真空等離子清洗機(jī)

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          設(shè)備出廠前連續(xù)24小時(shí)運(yùn)行調(diào)試

        • 完善的服務(wù)體系

          集研發(fā)、制造、銷(xiāo)售以及售后服務(wù)為一體的等離子設(shè)備高新技術(shù)企業(yè)

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