CRF plasma 等離子清洗機

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        大氣plasma噴涂原理與工藝的特性

        大氣plasma噴涂原理與工藝的特性
               大氣plasma噴涂簡稱等離子噴涂。plasma噴涂通過等離子噴槍來實現,噴槍的噴嘴(陽極)和電極(陰極)分別接電源的正、負極,噴嘴和電極之間通入工作氣體,借助高頻火花引燃電弧。電弧將氣體加熱并使之電離,產生等離子弧,氣體熱膨脹由噴嘴噴出高速等離子射流。送粉氣將粉末從噴嘴內(內送粉)或外(外送粉)送入等離子射流中,plasma噴涂氣體有氬氣、氫氣、氦氣、氮氣或它們的混合物。

        plasma噴涂

              使用的工藝氣體與電極上施加的電流共同控制工藝產生的能量。由于可以對每種氣體和所用電流進行精確的調節,所以涂層結果可以重復和預測。同時,材料被射入羽流的地點和角度以及噴槍到靶的距離也可被控制,從而能高度靈活地產生恰當的材料噴涂參數,擴大熔化的溫度范圍。等離子噴槍與靶部件的距離、噴槍和部件的相對速度以及部件冷卻(通常借助集中在靶基體的空氣噴射的幫助),一般將部件的plasma噴涂溫度控制在38°C至260°C (100°F至500°F)。
               大氣plasma噴涂工藝的特性 :可選涂層材料多,包括金屬、合金、陶瓷、金屬陶瓷、碳化物以及其他。涂層設備可以使用不同材料的層,生產符合各種應用的表面,包括多種不同的耐磨損和抗腐蝕機制、所需的熱特性或電特性、表面修復和尺寸控制。精確地控制涂層厚度和表面特性,例如空隙度和硬度。沒有熱影響區域或部件扭曲,沉積率高,涂層與基體的粘結力強,復雜幾何形狀的涂層,易于遮蓋不應噴涂的區域,工藝可實現全自動化。

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