CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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        等離子體刻蝕機(jī)如何對(duì)高分子材料進(jìn)行清洗改性

        一、真空和大氣等離子體刻蝕機(jī)的區(qū)分
               由于不同機(jī)制和條件下產(chǎn)生的等離子體具有不同的能量密度、氣體溫度、顆粒成分和電離度,聚合物材料的表面機(jī)理和效果也不同。但是,不論等離子體是如何產(chǎn)生的,聚合物材料表面改性通常包括等離子體聚合物和等離子體刻蝕機(jī)表面處理。

        等離子體刻蝕機(jī)

        二、等離子體刻蝕機(jī)中的等離子體聚合物
               等離子體聚合物是等離子體狀態(tài)下聚合物氣體形成的具有化學(xué)活性的基體,其中活性粒子在聚合物材料表面進(jìn)行了等離子體聚合物。傳統(tǒng)上認(rèn)為聚合物是分子單元通過聚合物過程連接在一起,聚合物的化學(xué)結(jié)構(gòu)可以由單體的化學(xué)結(jié)構(gòu)決定。等離子體聚合物氣體在輝光放電等離子體狀態(tài)下進(jìn)行聚合物,而不是分子聚合物,而是原子聚合物。單體中的某些元素和碎片不能進(jìn)入沉積物中,但由于是原子聚合物,它對(duì)維持等離子體輝光放電形成聚合物具有重要作用。等離子體聚合物的結(jié)果在材料表面形成一層薄膜,這種等離子體聚合物形成的薄膜堅(jiān)固、均勻、薄、致密、無(wú)針孔,結(jié)構(gòu)上是高度交聯(lián)的無(wú)定形態(tài),具有優(yōu)異的機(jī)械、電、光學(xué)和化學(xué)特性,用途廣泛。
               不同于通常的熱氧化反應(yīng),等離子體刻蝕機(jī)通電產(chǎn)生的等離子體表面的氧化反應(yīng)在反應(yīng)過程中產(chǎn)生大量的自由基,在連鎖反應(yīng)中產(chǎn)生自由基。不但能吸引大量的含氧基團(tuán),如羧基(COOH)、團(tuán)聚物(C=O)、羥基(OH)等;而且由于氧氣對(duì)材料表面的氧化分解,還能產(chǎn)生腐蝕作用,親水性明顯提高。各種材料引入的基團(tuán)數(shù)量和形式各不相同。此外,CO2、CO、H2O和空氣中的一些含氧氣體也可以在等離子體狀態(tài)下分解成原子氧,這也是氧等離子體的功能。

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