CRF plasma 等離子清洗機

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        誠峰plasma清洗具備3大優勢與傳統使用有機化學溶劑的清洗方式相比

        誠峰plasma清洗具備3大優勢與傳統使用有機化學溶劑的清洗方式相比:
                與傳統有機溶劑濕法清洗相比,誠峰智造解說plasma清洗機的幾大優勢,使您更了解等離子清洗機,等離子體是氣體分子在真空、放電等特殊場合下產生的物質。等離子清洗、刻蝕產生誠峰plasma清洗裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電磁場,用真空泵實現一定的真空度,隨著氣體越來越稀薄,分子問距及分子或離子的白由運動距離也越來越長,受磁場作用,發生碰撞而形成等離子體,同時會發生輝光。等離子體在電磁場內空間運動,并轟擊被處理物體表面,從而達到表面處理、清洗和刻蝕的效果。

        plasma清洗


              與傳統使用有機化學溶劑的濕法方式相比,誠峰plasma清洗具備以下幾大優勢:
              1.誠峰plasma清洗對象經等離子清洗之后是干燥的,不需要再經干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個工藝流水線的處理效率;
              2.采用無線電波范圍的高頻產生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強,這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內部完成清洗任務,因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。
              3.誠峰plasma清洗需要控制的真空度約為100Pa,這種清洗條件很容易達到。因此這種裝置的設備成本不高,加上清洗過程不需要使用價格較為昂貴的有機溶劑,這使得整體成本要低于傳統的濕法清洗工藝。


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